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標題: 白光干涉儀和共聚焦的區(qū)別 [打印本頁]
作者: xiaobaba    時間: 2025-10-17 15:45
標題: 白光干涉儀和共聚焦的區(qū)別
　　白光干涉儀和共聚焦顯微鏡在測量原理、分辨率、測量范圍、適用場景以及操作復雜度上均存在顯著差異，具體如下：
　　1.測量原理：
　?、侔坠飧缮鎯x：基于光的干涉現象，利用寬光譜白光的低相干特性進行測量。光源發(fā)出的白光經分光鏡分為參考光與物光，兩束光在接收端匯合形成干涉條紋。通過垂直掃描參考鏡并記錄干涉信號的強度包絡，最終通過算法重建三維形貌。
　　②共聚焦顯微鏡：以激光為光源，借助共聚焦成像技術實現測量。激光經針孔形成點光源，通過物鏡聚焦于樣品某一深度平面，該平面的反射光經同一物鏡收集后，只有聚焦點的光線能通過共軛針孔被探測器接收，非聚焦平面的散射光則被針孔阻擋。通過沿Z軸逐點掃描樣品并結合XY平面的二維掃描，獲取一系列不同深度的清晰圖像，經軟件合成后得到三維形貌數據。
　　2.分辨率：
　　①白光干涉儀：垂直分辨率可達0.1nm級別，能精準捕捉納米級的表面起伏；橫向分辨率受光學系統(tǒng)衍射限制，通常在微米級。
　　②共聚焦顯微鏡：垂直分辨率通常在10nm以上，低于白光干涉儀；但橫向分辨率可達到200nm左右，對表面細節(jié)的分辨能力更強。
　　3.測量范圍：
　?、侔坠飧缮鎯x：橫向測量范圍較大，一般為數十微米至數毫米，可對較大面積的樣品進行快速掃描；垂直測量范圍可覆蓋數微米至數百微米的高度差。
　?、诠簿劢癸@微鏡：橫向測量范圍相對較小，通常為微米至數百微米，更適合局部微小區(qū)域的精細觀察；垂直測量范圍受掃描深度限制，通常在數百微米以內，但對陡峭結構的適應性更強。
　　4.適用場景：
　?、侔坠飧缮鎯x：適用于測量超光滑表面（如光學鏡片、半導體硅片）的粗糙度、臺階高度等參數，尤其擅長大面積、低粗糙度樣品的檢測。其非接觸式測量方式對樣品無損傷，適合精密制造領域的質量控制。
　　②共聚焦顯微鏡：可實現熒光成像，在生物醫(yī)學領域的應用更為廣泛，如細胞動態(tài)觀測與顯微斷層成像。同時，它也適用于材料科學研究中微觀結構的斷層掃描與表面形貌分析。
　　5.操作復雜度與環(huán)境要求：
　?、侔坠飧缮鎯x：對環(huán)境穩(wěn)定性要求較高，需在恒溫（±0.5℃）、防震條件下工作，否則易因振動或溫度變化導致干涉條紋失真。不過，其自動化程度較高，操作人員經簡單培訓即可完成測量。
　　②共聚焦顯微鏡：雖也受振動影響，但環(huán)境適應性相對較強，部分型號可在普通實驗室環(huán)境中使用。其參數設置（如激光強度、掃描速率、針孔大?。Τ上褓|量影響較大，需要更專業(yè)的操作技能。
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作者: jdegs    時間: 2025-10-29 01:30
有沒有相關的資源或鏈接可以分享給大家？
作者: 魚魚    時間: 2025-11-3 14:26
感謝樓主的精彩分享，讓我開闊了視野。
作者: 試試就試試    時間: 2025-11-8 11:05
您的分享讓我對這個話題有了全新的認識，再次表示感謝！
作者: jixie126    時間: 2025-12-3 16:02
持續(xù)關注中，希望問題早日解決。
作者: 9549872678@20    時間: 4 天前
這個方案很有啟發(fā)



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